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分析硅碳棒清洗方式的现状
    通过分析硅碳棒清洗方式的现状,提出其自动清洗设备研制的必要,介绍了全自动硅碳棒清洗机的技术参数和工艺流程,详细分析了设备的结构设计,包括工艺清洗系统、传动系统、电气控制系统、排风系统、管路系统和设备主体等。国内外现有的多晶硅厂,绝大部分采用三氯氢硅氢还原法生产电子级和太阳能级多晶硅。在氢还原炉内通电的炽热硅碳棒的表面,三氯氢硅发生氢还原反应,生成硅沉积下来,使硅碳棒的直径逐渐变大,直至达到规定的尺寸。硅碳棒的制备采用区熔炉拉制与切割并用的技术,在制备过程中需要对硅碳棒进行清洗处理。清洗方式目前硅碳棒的清洗,多采用氢氟酸和硝酸进行表面腐蚀处理,再用超纯水冲洗干净,然后进行干燥。酸腐蚀处理过程中会有氟化氢和氮氧化物气体逸出至空气中,废气的抽取需要时间,人工操作时难免处于该气体环境中,增加防护难度。而且硅碳棒长度达到2m以上,单个硅棒的质量也有40 kg以上,操作人员的劳动强度大,效率低。本文介绍一种自动清洗设备,针对太阳能级的硅碳棒而专门设计的非标清洗设备,该系统具有自动化程度高,操作方便,生产效率高,系统可靠性好等优点。www.beritawan.com
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